美方前段时间对芯片的制裁升级,让我国芯片产业获得前所未有的度。在芯片代工厂领域,台积电是当之无愧的“巨无霸”,无论营收、份额,还是技术都遥遥领先,多年来始终稳坐全球第一大晶圆代工厂的位置。
其实我国不只是有台积电这一家代工厂,在7月的时候,中芯国际在科创板上市,凭借5985亿的市值成为了大陆第一芯片巨头,承载着无数希望的“芯”,这也是我们半导体领域的领头羊。
据了解,在同段位竞争者放下14nm工艺研发,追求市场主流的7nm时,中芯国际并没有随之改变发展计划,而是继续深入研发14nm工艺。终于,在2019年下半年,中芯国际官方正式宣布,该公司的14nm工艺已经成功实现量产。
就从目前N+1芯片工艺、N+2芯片工艺的整体规格来看,无疑中芯国际N+1芯片工艺、N+2芯片工艺水准都直接与目前台积电的7nm芯片工艺水准相差无几;对此,很多网友或许就要表示疑问了,目前中芯国际并没有相关的高端EUV光刻机设备,也能够攻克7nm芯片工艺的难题吗?
其实我们观察一下台积电在7nm芯片工艺的发展史,就能知道,台积电其实在7nm芯片工艺上共有三次技术迭代,他们分别为:“低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工艺的N7+”,前两代的7nm芯片工艺都没有使用高端EUV光刻机设备,只有最后一代使用了EUV。所以没有EUV光刻机设备,中芯国际同样也能够进入到7nm芯片工艺时代,对此,很多网友也更是纷纷表示:“第二个“台积电”要诞生了。”