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多家外媒消息称，早在3月4日中芯国际从荷兰引入的一台大型光刻机，就已进入该企业深圳厂区工作运行，主要用于企业复工复产后的生产线扩容，从而稳固提升企业生产效率及营收。

不过从中芯国际有关负责人处证实，此次荷兰发货的光刻机并非是外界一直关注的极紫外光刻机（EUV），而是一台DUV常规设备。尽管没有EUV技术，但沉浸式DUV光刻机依然可以制造28nm到7nm之间的各种芯片，所以对于中芯国际而言仍然帮助巨大。

值得注意的是，同一天中芯国际宣布直接越过10nm芯片工艺，直接向7nm芯片技术进军，最早将在今年第四季度投入量产。据悉，华为方面也参与到了相应的技术攻关中来，一旦成功华为海思芯片或将交由中芯国际代工。

而且交由中芯国际代工之后，美国对华为在技术层面的施压将全部失效。可以说这台光刻机的到来，使得中芯国际和华为获得了双赢的局面，另外也不用担心美国实体限制清单变动所带来的一系列风险。

说实在的，对于我国一些科技企业而言，这台光刻机设备还远不能满足发展需求，所以极紫外光刻机仍是需要追求的目标。即便有外力阻挠，中芯国际等企业还是要想办法克服困难拿到一台极紫外光刻机。

据了解，2018年中芯国际就向荷兰阿斯麦尔（ASML）公司订购了一台最新型的极紫外光刻机，计划去年初交货。可惜的是，由于美国从中作梗，不断向荷兰施压导致这份价值1.5亿美元的合同迟迟未能履行。

这样一来，我国半导体行业将受到很大影响，还要面临受制于人的风险。由此可见极紫外光刻机对我国半导体行业发展有着举足轻重的作用，换言之只要这项技术我们没有，就一直会被美国拿来当作打压底牌。

好的一点是，在我国相关政策的促进下，众多半导体企业开始发力。就拿中芯国际来说，短时间内量产了最先进14nm制程芯片，这意味着在半导体领域技术上的困难我国企业是完全可以通过独立钻研解决的。

只要相关半导体企业保持住现在刻苦钻研的势头，相信在不久的将来就能够突破美国设置的技术壁垒。道阻且长行则将至，未来“中国芯”必然会走向世界取得辉煌成就。