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好消息传来!中科院突破5nm光刻机技术,打破西方垄断局面
2020-07-15 来源:小土豆聊科技 阅读:514

伴随着华为禁令事件的发生,国内很多企业意识到技术的重要性,尤其是被西方垄断技术。想要更好发展,这些技术必须实现突破。其中芯片技术突破已经迫在眉睫,前不久美国方面宣布:新的制裁方案已经形成,不过给予了华为三个多月的缓冲期。在缓冲期结束之后,华为芯片供应链将遭受重创,该方案规定:只要使用美国企业技术生产、研发芯片,那么在与华为合作时必须获得批准。

至于芯片研发给华为带来的压力并不大,毕竟依靠此前技术积累,华为海思已经实现芯片自主研发,并且在性能上几乎与高通持平,这意味着在芯片研发方面,老美此举并不能造成致命打击,不过芯片生产问题却很难解决。作为全球最大芯片代工企业,台积电一直与华为合作紧密,是其主要代工合作伙伴。可一旦新方案开始实施,台积电与华为的合作很有可能被迫终止。

为了应对接下来的芯片危机,华为日前临时向台积电增加数亿订单,而台积电方面也在尽可能为其代工。但实际上这只是缓冲手段,却无法根本解决芯片代工问题,不过华为就真的会就此被打垮吗?当然不会这样,首先,国内还有中芯国际,虽然不及台积电却已经取得诸多成就。

通过了解,在国内大力支持之下,目前的中芯国际已经28nm、14nm芯片制造工艺,此外7nm制造工艺也已经准备投入量产。虽然如此,可无高端光刻机却严重阻碍5nm乃至更精密技术的研发,不过近日中科院传出好消息!5nm光刻机技术突破,或就此打破西方垄断。此前该技术一直被ASML公司牢牢掌握,此次在张子旸团队努力下,成功突破技术局限,并且以不同于ASML公司的技术方式实现。

这意味着我国距离独立生产高端光刻机又进了一步,其实光刻机的研发尤为困难,许多技术都被西方垄断,由此,中科院此次打破技术障碍,一时间让国人欣喜若狂。尽管技术突破并不意味着可以独立生产光刻机,但对于芯片领域来说,这无疑是重要的一步,相信在众多研发人员的努力之下,未来实现光刻机独立生产并不是不可能。

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