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说起光刻机我们不得不想到荷兰ASML光刻机，其拥有世界上最先进光刻机，而其中最先进的极紫外光刻机（EUV光刻），全世界也只有ASML一家公司能制造，具备7nm芯片乃至5nm等芯片工艺。而且一台光刻机的单价1.5亿美元，而荷兰ASML每年能够生产的光刻机数量为24台左右。

而在芯片代工方面，国内的中芯国际14nm芯片工艺还可以缓冲一下今年的国内芯片用量，但是在7nm芯片乃至5nm等芯片工艺方面依然落户，不得不靠EUV光刻。那么是否有国产光刻机？

答案是有，但是有差距。国内的上海微电子，虽然也能够生产出来光刻机，但目前只能够生产出来90nm的光刻机，目前上海微电子将交付首台国产28nm光刻机。

不过现在还有最新消息称，上海微电子预计在今年12月，将可能下降首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/10W光刻机。如果采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米，该光刻机有生产7纳米制程的潜力（多次曝光）。网友同时贴出SMEE的双工件台曝光系统的操作控制界面。同时还透露长春光机所正基于哈工大DPP-EUV光源研制EUV曝光机，预计两年内可推出。

其它核心器件技术方面，依托浙江大学研发团队的启尔机电推出了可用于最高11nm制程浸没式光刻机的浸液系统。中微半导体也推出用于5nm制程蚀刻机。南大光电研发出193nm光刻胶。华为自研EDA已进行7纳米验证。换言之，国产11纳米光刻机即将到来。

国产深紫外浸入式光刻机供应链：

1.由上海微电子负责总体集成。

2.光刻机物镜组来自北京国望光学。

3.光源来自科益虹源。

4.浸液系统来自浙江启尔机电。

5.双工件台来自华卓精科。

专利申请超过2400项，上海微电子光刻机成为国产希望。公司成立于2002年，在国内中端先进封装光刻机和LED光刻机行业市场中，上海微电子占据了80%的市场份额，年出货大概在50-60台之间。目前SMEE直接持有各类专利及专利申请超过2400项，涉及光刻设备、激光应用、检测类、特殊应用类等各大产品技术领域。