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中国专家:我国光刻机有重大突破!很快就能超越荷兰光刻机
2020-07-09 来源:科技界的超新星 阅读:585

半导体它是一种电导率在绝缘体至导体之间的物质,它其中的电导率容易受控制,但也是作为信息处理的元件材料。芯片则是半导体里的一个集大成者,而现在芯片的利用率非常的高,必然,如果要想有一些技术领域的突破,就势必要在芯片领域有所发展。

那让我们了解一下光刻机,光刻机又名,掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等等。常用的光刻机是掩膜对准光,所以叫 Mask Alignment System。简单明了的说,光刻机就是在制造芯片时是一个不可或缺的工具,因为没有光刻机就等于没有芯片。

荷兰的大多部分芯片公司都是使用其ASML进行缔造的,并且得到了EUA光刻机的支持,以用于芯片缔造技术。该光刻机的技术发展非常的先进,再加上荷兰公司已经在很多方面供应了支持,因此光电子学的发展有了巨大的进步。他们的公司可以制造可以达到5纳米的芯片,而这种技术在全球范围内得到了宽泛报道。

目前中国唯一可以缔造光刻机的厂商是位于上海,上海微电子,也是目前中国独一无二的光刻机缔造厂商。上海微电子与荷兰ASML的成立时间有较大的差别,时间于2002年是上海微电子的成立,而时间于1984年是荷兰的ASML的成立,对比来说,1984-2002,我国光刻机的研发起步晚了荷兰近20年,但是没关系,上海微电子成立以来发展较快,正在全力追赶荷兰ASML。

历经多年的自主创新不断发展进步,目前我国上海微电子已经掌握了先进封装光刻机,高亮度LED光刻机等高端智能制造领域的先进技术!随着我国越来越多的才子,目前上海微电子人才队伍和管理团队也逐渐扩大。

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