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据媒体报道，上海微电子技术再次获得突破，成功研发出22nm的光刻机。其成功借助紫外线光源实现22nm分辨率，这推动国产光刻机的发展朝前迈进一大步，该技术一旦成熟就意味着我国22nm光刻机即将问世，这样一来将推动国产芯片实现进一步的发展。

虽然与荷兰ASML公司5nm工艺制程还有差距，但是差距已经大大缩小，毕竟在此之前国产光刻机还是90nm。因此，对于中国芯片发展而言也是一大重要的里程碑。

如今全球最大的三家光刻机供应厂商主要是ASML、佳能、尼康，他们占据了全球99%的市场。

上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商，从低端切入各个细分市场，现已成为封测龙头企业的重要供应商，国内市场占有率高达80%，全球市场占有率也有40%，同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先，LED光刻机市占率第一。